由上海世龙科技有限公司承担的国家发改委“民用非动力核技术产业化项目—辐射改性高分子新材料高技术产业化示范工程”项目，在中科院上海应用物理研究所和深圳市沃尔核材股份有限公司的共同努力下，于2008年1月22日上午10点在上海市嘉定区北开发区举行了奠基仪式，标志着该项目一期工程和世龙公司新基地的建设工作正式启动。
出席奠基仪式的有上海应用物理研究所所长、项目负责人徐洪杰，党委书记、副所长、世龙科技有限公司董事长陆晓峰，副所长赵振堂、李燕，世龙科技有限公司创始人之一、董事、资深顾问邱士龙研究员，以及深圳市沃尔核材股份有限公司董事长、总裁周和平，中共嘉定区科学技术委员会党组书记汤洪良，上海嘉定工业区党工委书记、管委会常务副主任郁建华。参加仪式的还有世龙公司董事会和监事会成员、中国科学院上海分院、上海应用物理所有关领导和世龙公司员工等百余人。世龙公司蔡锡明总经理主持了奠基仪式。陆晓峰董事长首先向参加奠基仪式的来宾们介绍了世龙公司和国家发改委产业化项目的概况。汤洪良先生和周和平先生在致词中分别给予世龙公司良好的祝愿。徐洪杰所长在致词中，以瑞雪来喻示世龙公司将有着美好的明天，并期望世龙公司全体员工克服困难，抓住机遇，服从大局，面向未来，积极创新，勇于开拓，早日实现公司制定的战略目标。
这次开工建设的项目一期工程占地30亩，建筑面积约12000平方米，包括科研楼、隔膜生产车间、隔膜前道车间、综合车间、钴源辐照室等6幢主体建筑。建成后，将形成年产辐射接枝电池隔膜400万平方米和生物医药用过滤膜10万平方米的生产能力，将为世龙公司的进一步发展奠定坚实的基础。
伴随着清脆的爆竹声、祥和的飞雪，出席仪式的领导共同为奠定上海世龙科技有限公司未来百年基业而挥锹。奠基仪式的顺利进行预示着世龙公司将抓住发展机遇，开始腾飞。（产业化处于俊峰供稿）